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2017-1111
CVD（ChemicalVaporDeposition）即化學氣相沉積，是一種常用的薄膜生長技術。它通過在氣相條件下使化學反應發生，讓氣態前驅物沉積在固體表面上形成薄膜。而MOCVD（MetalorganicChemicalVaporDeposition）即金屬有機化合物化學氣相沉積，是一種特殊類型的CVD技術，用于在基底表面生長金屬、合金或化合物的薄膜。在這兩種技術中，CVD，MOCVD專用氫氣發生器扮演著至關重要的角色。CVD技術CVD的基本原理是將所需的反應氣體和基底材...
查看更多2017-1110
氫氣發生器在氣相色譜領域中扮演著至關重要的角色，為氣相色譜分析提供了穩定、可靠的氫氣源，以下從多個方面介紹其具體應用：作為載氣1.原理與作用：載氣的主要作用是將樣品帶入氣相色譜柱中進行分離。氫氣具有黏度小、擴散系數大等特點，能夠使樣品在色譜柱中快速移動，從而縮短分析時間，提高分析效率。同時，氫氣作為載氣可以降低色譜柱的柱壓，減少色譜柱的磨損，延長色譜柱的使用壽命。2.應用優勢：與傳統的載氣如氮氣、氦氣相比，氫氣價格更為低廉，來源廣泛，能夠有效降低氣相色譜分析的成本。此外，氫氣...
查看更多2017-116
高純氫氣發生器特點:1)操作簡單，打開電源即可產氣，可連續工作效率較高，2)高純氫氣發生器采用先進(固態電解)“SPE”技術無需加堿，使用進口美國杜邦公司離子膜，直接電解純水分離。3)氣體輸出端裝有氣體凈化器，更進一步的提高了氣體的純度。4)輸出流量由液晶實時顯示，超壓斷電保護功能，壓力穩定。5)本儀器電解槽：采用鈦合金材料，加銥鉭涂層，更好的保證了它的耐用性。高純氫氣發生器使用方法：1)發生器出口同氣相色譜用管道相連，并檢查氣密性；2)關閉氣相色譜氫氣閥門；3)打開發生器電...
查看更多2017-112
高壓氫氣發生器作為實驗室及工業生產中制備高純度氫氣的關鍵設備，其穩定運行與高效產出直接關系到實驗精度和生產安全。掌握科學的使用技巧，不僅能延長設備壽命，更能確保氫氣純度與壓力的穩定性。以下從安裝調試、日常操作、維護保養及安全防護四個維度，系統梳理高壓氫氣發生器的核心使用技巧。安裝調試：設備安裝需選擇通風良好、遠離火源及腐蝕性氣體的干燥區域，地面需平整承重，避免振動干擾。安裝前需檢查包裝完整性，確認主機、電解液箱、過濾器等部件無破損。連接管路時，需使用專用耐壓軟管，接口處纏繞聚...
查看更多2017-1031
大流量氫氣發生器是一種用于產生高純度氫氣的設備，其工作原理是通過電解分離池或壓縮機將氫氣與其他氣體分離出來。然而，無論是哪一種氫氣發生器，都需要對其所輸出的氣體進行干燥以及凈化功能，這就是所謂的除濕除烴(或者除油)。在這個過程中，氫氣發生器過濾管就發揮了很大的作用。目前，市場上有兩種常見的大流量氫氣發生器過濾管安裝方式：吊裝式和立裝式。1.吊裝式：這種安裝方式的凈化管的進氣口和出氣口都在儀器上部，出管口向下。從電解分離池或者壓縮機過來的氣體首先從固定蓋中間內突起的進氣口向下通...
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