金剛石MPCVD氫氣發生器是一種先進的設備，在人造金剛石合成及多個領域發揮著重要作用.
 

　　定義與核心技術
 

　　金剛石MPCVD氫氣發生器是用于通過微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)技術合成人造金剛石的關鍵設備，其核心在于利用金剛石電化學膜技術生成高純度氫氣。它采用金剛石薄膜作為電解質，通過電解水來產生氫氣和氧氣，并以氫氣為主要產物。
 

　　工作原理
 

　　基本原理：MPCVD法是一種化學氣相沉積技術，其核心在于利用微波能量激發含有金剛石前驅體的氣體(如甲烷、乙炔、氫氣等)，使其分解并形成高濃度的等離子體。這些等離子體在適宜的溫度和壓力條件下，在襯底上逐漸生長出金剛石晶體。
 

　　具體步驟：
 

　　1.襯底準備：選擇合適的襯底材料，如硅、鉬或鎢，并進行表面處理以提高金剛石生長的附著力和質量。
 

　　2.氣體注入：將含有金剛石前驅體的氣體(如甲烷、氫氣等)注入反應室。這些氣體在微波能量的作用下被激發成等離子體狀態。
 

　　3.微波激發：微波發生器產生高頻電磁場，電子在電磁場的作用下與其他基團發生碰撞，促進氣體的電離化并形成高密度等離子體。反應溫度通常控制在800℃左右，以利于金剛石的生長。
 

　　4.壓力控制：通過調節反應室內的壓力，使金剛石晶體在適宜的環境中生長。較高的壓力有助于提高金剛石的生長速率和質量。
 

　　5.晶體生長：在適宜的溫度和壓力條件下，等離子體中的碳源和活性氫原子在襯底上逐漸沉積并形成金剛石晶體。這一過程中，氫原子對非晶態碳或石墨相具有更強的刻蝕作用，從而促進了金剛石單晶晶體質量的提高。
 

　　6.收集產物：將生長好的金剛石晶體從反應室中冷卻后取出，進行后續處理和應用。
 

　　應用領域
 

　　1.人造金剛石合成：為MPCVD技術合成人造金剛石提供高純度氫氣，是該技術中的關鍵設備之一。
 

　　2.半導體領域：在半導體材料制備、薄膜沉積技術、半導體器件制造等過程中，提供穩定可靠的高純度氫氣供應，保證工藝的順利進行和產品質量。
 

　　3.其他領域：還可應用于聲學、光學、熱學、力學、電學以及量子技術等前沿領域。
 

　　產品特點
 

　　1.高純度氫氣產出：能夠連續、可靠地產生純度高達99.9995%以上的氫氣，滿足人造金剛石合成及其他應用對高純度氫氣的需求。
 

　　2.先進技術應用：采用SPE固態電解質技術、英國Peculiar離子膜等先進技術，確保氫氣的高純度和實驗結果的穩定性與重現性。
 

　　3.安全簡便：整個過程僅需去離子水和供電即可產生氫氣，一次加水可持續工作15天，極大地降低了成本。同時，氫氣根據需求適時適量產生，確保了儲存體積的安全性和穩定性。
 

　　4.自動化控制：壓力和流量均采用一體化微電腦控制，實現精準調節；具備自動水位控制、漏氣自動檢測等功能，提高設備的安全性和可靠性。
 

　　5.環保節能：直接電解純水，無需用堿，有效保護色譜柱，延長設備使用壽命，符合環保要求。